光掩模基版 匀胶铬版 空白光罩（小面积）普照牌

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主营： 光掩膜基版| 匀胶铬版| 真空溅射镀膜|光刻涂胶玻璃抛光
普照牌 光掩膜基版 匀胶铬版 空白光罩（小面积）的详细描述：    光掩膜基版（匀胶铬版、空白光罩）的详细描述：     匀胶铬版是一种硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料（相当于照相用的感光胶卷）。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射（sp）沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂（又称光刻胶）或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。　　光掩膜基版是制作微细光掩膜图形的理想感光性空白板，通过光刻制版工艺可以获得所需光掩膜版。简单地说，光掩膜基版在被刻蚀上掩膜图形之后就成为光掩膜版。　　匀胶铬版具有高的感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清洁处理、使用寿命长等特点，当前被广泛应用于ic、lcd、pcb、pdp、dot等产品掩膜版的制作。

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