工业ct检测系统--------225kv微焦点工业ct xth 225
5 µm 焦斑反射目标x射线源,25~225 kv,0~2000 µa(非连续)60或225w。10kg容量五轴完全可编程操纵器。最大扫描范围250 x 330mm。最大几何放大倍数:160x.最大系统放大倍数:400x。特征识别分辨率:最低1µm。外机柜尺寸:2030mm l,925mm d,2000mm h。全套系统控制和图像处理软件。xt h 系统可采用225kv电源,可选用旋转目标,适合于各种应用,包括小铸件检测、塑料件及材料研究。
优点:可灵活地整合在单个系统中:x射线可用于快速目视检测,ct可用于深入分析,快速数据采集和高质量图像,可利用交互式操纵杆导航功能进行快速操作,高分辨率数字成像和处理,嵌入式安全装置可使操作人员安全地操作该系统,无需任何特殊的预防措施或安全警示标志,可与行业标准后处理应用紧密集成
应用:评估和测量精密塑料件和小铸件、复杂机构、内部零件、部件与cad比较等,故障检测和失效分析,装配问题的故障诊断排除,先进材料研究和生物结构的分析,模型的数字化归档。
产品的具体规格参数可以参阅图片所示
25-225kv 微焦点源,焦斑大小为3μm 低成本维护开管技术 五轴完全可编程操纵器 精选高分辨率数字探测器 双显示,用于组合测量和实时分析 直观的操纵杆导航可指导生成实时x射线图像 测量体积 25x60cm 安全装置,可作为设计标准 结构紧凑设计,轻质设施安装 符合人体工学的样品装载 主要特征概述
x射线源 可使用25kv至最大225 kv电压,xt h 225系统可用于一般用途,例如塑料、pcb、轻合金、小组件和有机样本或生物样本,也可用于特殊用途,例如重型铸件、焊接件和高密度合金。 目标 微焦斑可产生非常高的分辨率,并建议将其作为标准目标。棒阳极是中空样品单层壁检测的理想选择,例如管焊接。 旋转目标源 带有旋转目标的x射线源可将x射线通量提高5倍,使客户能获得更快的ct数据采集或在相同的时间跨度内获得更高的ct数据精度。 五轴样品操纵器 xt h 225系统有三个线性轴和两个旋转轴,可从任意角度观察样品。10kg操纵器可夹住大多数样品重量,以最高精度进行操纵。操纵器通常用变速操纵杆进行控制。操纵器也可通过安装在机架上的工业pc机采用编程的方式进行控制。 x射线平板探测器 可广泛选择各种平板,使其更好地匹配物体尺寸和x射线能量,这提供了样品尺寸、视场和放大倍数要求的最佳选择。 高放大倍数 当样品向x射线源移动时,几何放大倍数将连续增加,从大约1x(紧挨着增强器窗口)增大到160x(碰触到x射线源)。 图像处理 一般ndt应用通常需要一些标准功能,例如对比度加强,图像集成和背景减除。对于更加重要的分析,需要使用一些特殊功能,例如自动芯片粘接空洞和引线弯曲计算、图形显示和色彩增强。 可靠性 连续泵浦全金属x射线管消除了密封玻璃管故障成本高和更换时间长等问题。客户维护成本低,通常只需更换灯丝,只需花费15分钟的更换时间。 温馨提示:如果您对上述的介绍有任何的疑问或是想要了解更多关于尼微焦点工业ct检测系统的更多常识,可以点击//www.bjxzyq.com/,这里提供最权威的专家解答,我们欢迎您的来电咨询。
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