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磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还可进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，如今，常用的有电子回旋共振(ecr）型微波等离子体溅射。铟靶材厂家，铟靶材价格，铟靶材回收
导体工艺在0 .25um 以下的亚微米布线的需要但却带米了其他的问题：铜与有机介质材料的附着强度低．并且容易发生反应，导致在使用过程中芯片的铜互连线被腐蚀而断路。为了解决以上这些问题，需要在铜与介质层之间设置阻挡层。阻挡层材料一般采用高熔点、高电阻率的金属及其化合物，因此要求阻挡层厚度小于50n m，与铜及介质材料的附着性能良好。铟靶材厂家，铟靶材价格，铟靶材回收，铟靶材哪家好
中国贵金属管控在2000年之前是非常严格的，2000年之后才松动了许多。近几年我国开采出来的一些贵金属原矿，原矿开采出来后提取出来的贵金属含量并不高。我国贵金属废料收购近几年火热起来，一是因为贵金属废料废水提纯出来的贵金属含量比原矿开采出来的含量都要高。贵金属回收厂家，贵金属回收价格，贵金属回收利用

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