美国GE纳滤膜 DK4040C 抗污染四寸纳滤膜

美国ge纳滤膜dk4040c抗污染四寸纳滤膜
孙先生  13652329065  2338767047
美国ge纳滤膜元件污染形成因素分析
美国ge纳滤膜元件污染通常是指溶液中的溶质以及溶剂相互作用而产生的一些复杂现象，主要包括膜面污堵、化学破坏以及细菌生长几种情况。
　　当截留的污染物质没有从ge纳滤膜元件表面传回主体液流(进水)中，膜表面上污染物质的沉淀与积累(这包括溶解性盐和悬浮固体在膜表面的富集、胶体和可溶性高分子有机物的吸附与微生物的粘附生长以及新陈代谢产物形成的粘垢)，使水透过膜的阻力增加，妨碍了ge复合纳滤膜元件面上的溶解扩散，从而导致膜产水量和水质的下降。
　　同时，由于沉积物占据了盐水通道空间，限制了组件中的水流流动，增加了水头损失。实验研究表明，这些沉积物可分别通过物理、化学及物理化学方法去除，因而ge纳滤膜元件产水量是可恢复的。
美国ge纳滤膜元件清洗条件
ge纳滤膜元件的清洗时机主要依据以下参数的变化来选择：
(1)在正常给水压力下，产水量较正常值下降10%～15%。
(2)为维持正常产水量，经温度校正后地给水压力增加10%～15%。
(3)产水水质降低10%～15%，透盐率增加10%～15%。
(4)系统各段之间压差明显增加。
　　以上标准的基准条件，可考虑取自系统经过最初48h运行时的纳滤膜的性能。 
　　需要注意的是，如果进水温度降低，ge纳滤膜元件产水量也会下降，这是正常现象并非纳滤膜的污染所致。预处理失效，压力控制失常或回收率的增加也将会导致ge纳滤膜元件产水量的下降或透盐率的增加。
　　当观察到系统出现问题时，此时ge纳滤膜元件可能并不需要清洗，应该首先考虑这类原因。 
ge纳滤膜元件正常的清洗周期是每3～12个月一次，如果1个月内清洗一次以上，需对纳滤预处理系统做进一步调整和改善或者重新设计预处理系统。如果清洗频率是每3个月一次，需对现有设备进行改造。如果ge复合纳滤膜元件的性能降低至正常值的30%～50%时，清洗将不能完全恢复膜元件的性能，此时需考虑更换膜元件。

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